【OLED製作～CVDまで真空一貫で成膜可能な成膜装置】

UV/O3～有機・金属成膜～CVD～スパッタまで真空一貫で成膜可能な成膜装置を保有しています。有機EL素子に低温でCVD成膜し、高温高湿の環境下で加速試験を実施することができます。

【耐久性の高いSiN膜】

CVDで成膜したSiN膜は、成膜条件よって膜が酸化することが分かっています。弊所では、条件を調整することで、高温高湿でも酸化しにくいSiN膜が得られました。

M. Shiochi, H. Fujimoto et al., J. Vac. Sci. Technol. B 41, 060601 (2023).
株式会社 東レリサーチセンター殿との産官学連携共同研究の成果