【共同研究の概要】

i³-operaの技術:CVDバリア膜成膜、電極成膜、有機EL層成膜

INOELの技術:フレキシブル基板、バリア性評価、ALDバリア膜成膜、フレキシブル封止

【主な技術成果】

低温(60℃)でのCVD成膜で、膜厚200nmの単層SiN膜で高いガスバリア性(WVTR:10^(–5)g/m²/day台)

※WVTR: Water Vapor Transmission Rate

※MA法(Modified differential pressure method with an Attached support)を用いた株式会社MORESCO社製のガス・水蒸気透過率測定装置(スーパーディテクト)で測定

【フレキシブル有機ELデバイス試作】

【共同研究先】

• 山形大学 有機エレクトロニクスイノベーションセンター(INOEL)様
• 株式会社MORESCO様
• 東洋インキSCホールディングス株式会社