【CVD膜封止】

i³-operaでは、UV/O3～有機・金属成膜～CVD～スパッタまで真空一貫で成膜可能な成膜装置を保有しています。

有機EL素子にCVD成膜し、高温高湿の環境下で加速試験を実施することができます。

【SiN膜の特性】

• 成膜温度:60℃
• 屈折率:約1.89
• 応力:約 -100 Mpa
• WVTR:約2.0×10-5 g/m²/day (膜厚1,000nm)

※ 1) WVTR測定方法:MA法(MORESCO社製ガス・水蒸気透過率装置使用)
※ 2) WVTR測定は、山形大学 有機エレクトロニクスイノベーションセンターフレキシブル基盤技術研究グループ様にご協力いただきました。

【デバイス評価】